近边缘X射线吸收NEXAFS(0.2-1.2keV) | 瑆创光学电子商店

 proXAS是市场上首个在实验室中进行NEXAFS测量的系统。

现在，我们能够在内部实现元素分析的指纹识别，获得快速且准确的结果。

它结合了高可靠性的激光基XUV源和定制的光谱仪，光谱仪的分辨率极高，达到1900。

其能量范围在200-1200eV之间，可用于在C、N、O、Ca、K、Ti等元素的K边缘进行测量。

集成NEXAFS系统

 首个集成台式NEXAFS光谱解决方案

 无需申请并等待波束时间

 地质、生物、材料的化学状态分析研究

 快速多色采集

同步加速器质量光谱

 能量范围200至1200eV

 1900的高分辨率

 极高的表面灵敏度

 关于分子轨道、氧化的信息状态，协调编号

 光谱分析软件套件

应用

 有机材料的分析，例如。脂质膜、腐殖酸、聚合物薄膜，尤其是在碳K吸收方面

 C、N、O、Ca、K、Ti的表面灵敏化学分析

 聚酰亚胺薄膜碳K边缘的NEXAFS光谱（t=200nm），用桌面系统测量，平均60个脉冲。

插入，在同步加速器上记录的NEXAFS光谱进行比较。

 XUV光源采用高度可靠的激光产生等离子体。

 能量范围200-1200eV。

 重复频率25Hz

 在聚酰亚胺膜的碳K边缘处的NEXAFS光谱（t＝200nm）

（1） 用台式系统测量，平均超过60个脉冲。