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无掩膜紫外光刻机 | 瑆创光子学商店

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无掩膜紫外光刻机
产品概述 规格 联系下单!

瑆创科技开发的无掩模紫外光刻机可以设计任何您想要的纳米图形，而无需昂贵的光刻板。瑆创科技的这款产品能在实现优越的光刻性能的同时，保证低成本以及更便捷的用户体验。

 

光束引擎将紫外激光束聚焦成衍射极限光斑，通过扫描该光斑在光刻胶上曝光任意图案。为了曝光大尺寸晶圆，精密步进机驱动晶圆移动，实现多张曝光图像的拼接。光束引擎能够在8英寸晶圆上产生小于 (CD) 0.5 µm 的特征。

 

* 瑆创新推出的Beam Lite，可以根据需要自由组合，为用户带来更灵活更实惠的最优选项。请即联系我们获取最新资讯。

 

想获取产品演示或样品测量

请即发送邮件info@simtrum.com
  • 袖珍全功能无掩模光刻机，比台式电脑还小，价格更实惠。
  • 强大拥有亚微米分辨率，在不到两秒的时间内完成一个曝光图案的写入。
  • 超快自动对焦当与我们的闭环聚焦光学器件结合使用时，压电致动器在不到一秒的时间内完成聚焦。
  • 毫不费力的多层对齐几分钟内实现半自动多层对准。

 

测量示例

开环谐振器阵列。右侧的分离距离为1.5µm (箭头)，
左侧的分离距离为 2 µm。 外圈直径为 80 µm。

硅衬底上的光刻胶微图案阵列。每个单元为 50 × 63 µm，
相邻图案之间的间距为 3 µm。 使用的光刻胶：AZ5214E

 

0.8 µm 锥形中间部分，侧面有 20 ✕ 90 µm 接触电极。
使用的光刻胶：AZ5214E

线宽为500 nm的方形图案
光刻胶：KL530

 

线宽为2 μm的微线圈及其他图案
光刻胶：5 μm干膜

指状电极间距为2 μm的指状电容（IDC）。
光刻胶：AZ5214E

 

软件特点

随附的软件可以快速完成任何图案工作； 只需加载、对准和曝光。 导航类似于 CNC 系统。在多层曝光期间，GDS 图案被覆盖以进行可视化。
控制 GUI（左窗口）有一个加载的 GDS 的小地图，允许通过一键导航到晶圆上的任何区域。

 

Xplorer 主窗口   相机窗口
Softwear_Xploer_Main_Window.jpg   Camera_Window.jpg

充当整个样本阶段的小地图。 可以查看加载的图案和暴露区域。
黑色 bos 显示 BEAM ENGINE 当前所在的区域。 摄像头窗口上的实时视频也对应相同的区域。

  

摄像头窗口显示 BEAM ENGINE 下方的图案。
相机窗口在对齐过程中也起着重要作用，其中选定的对齐特征显示在 amera 流上。

 

图案处理

SIMTRUM BEAM 的设计使完全曝光所需的步骤最少。 根据图案化工作的复杂性，可以在 3 分钟内将图案加载、对齐和曝光到晶圆上。 整个图案化工艺流程如下图所示：

Patterning.jpg

 


产品升级

  • DMD取代激光振镜
  • 可互换透镜设计（0.5 μm分辨率或200 mm²/min）
  • 真8位灰度光刻技术，适用于先进2.5D/3D微结构制造
  • 单写场曝光速度最快达250 ms
  • 梯度拼接支持最高100%重叠率
  • 低维护需求：固态架构减少了活动部件和磨损。所需校准次数减少80%，最大限度地减少了停机时间和维护成本

产品规格

产品型号 LL-LW-405-4-0.8* LL-LW-405-6-0.8*
可重复性 0.1 μm
自动对焦 压电驱动；快速且精准（20 nm）对焦
兼容大多数透明基底
晶圆对准 自动晶圆对准
仅顶部 顶部及底部（可选）
最大写场 106×106 mm 150×150 mm (8"可选)
最大样本尺寸 130 mm ✕ 130 mm ( 5"兼容) 155 mm ✕ 155 mm ( 6"兼容)
 样品安装方式 摩擦安装（可选：多孔真空吸盘）
重量 20 kg 27 kg
系统尺寸 330×310×340 mm 342×385×338 mm
物镜   50×
LL-LW-50		 20×*
LL-LW-20		 10×*
LL-LW-10		 5×
LL-LW-5
最小线宽 (μm)  0.5 0.8 1.5 3
图案化速度(mm2/min)  3 15 60 200
激光曝光波长(nm)   405 nm（365/385 nm可选）
支持软件选择双波长（选配）
灰度级 8位（16位可选）
软件  支持的文件格式 .bmp, .png, .tiff, .dxf, .gds,图案可直接在软件中绘制
图案设计 Beam Xplorer
绘图 KLayout（功能最强大），AutoCAD

 

  • 对于LL-LW-405-4-0.8和LL-LW-405-6-0.8产品，标配20×物镜。如需其他物镜（如50×），请联系SIMTRUM。
  • 对于LL-LW-405-4-1.5（经济型）产品，标配10×物镜。如需其他物镜（如5×），请联系SIMTRUM。

 

 

LL-LW-405-6-0.8 型设备背面对准功能（可选配置）

 
SIMTRUM的背面对准技术通过两台摄像头和专有计算机视觉软件实现。这两台朝上摄像头以固定距离排列，能够捕捉晶圆底面的对准标记。
 
每套背面对准系统均配备校准晶圆及自校准软件。
 
注意：背面对准功能必须随系统一同购买，不可作为升级选项单独获取。

 相机 5 MP Sony Sensor
视场角 2000 μm
 像素分辨率 1 μm
照明波长 570 nm
对准分辨率 0.1 μm
对准精度 ＜2 μm
 相机间距 Customizable from 80 to 135 mm
兼容性 Only for LL-LW-405-6-0.8

 

 

Product_Front_View.jpg

前视图

Product_Back_View.png

后视图
Modular optics.jpg

 模块化光学设计

可更换的光学元件可最大限度地减少停机时间并提高可升级性。

定制选项可用于不同的波长和写场大小。联系我们 info@simtrum.com了解更多信息 。

运行需求

 

功率

BEAM 在 100-240 VAC 50-60j Hz 上运行。 自动感应线路电压和频率； 因此，无需设置任何开关。 检查您所在地区的工作电压是否兼容。

 

放置环境

● 室内、无尘、近非导电污染（EN61010-1:2010 2 级）

● 桌面振动应保持在 VC-A (50 um/s) 以下

● 非超净间环境下可使用 (Vibration Reference link)

● 设备必须避免阳光直射

● 相对湿度 < 80%（无冷凝）


 

如果您需要我们的技术团队指导产品选型或定制，请帮助提供以下技术信息，这有助于加快流程。

项目 详情 单位 备注
应用领域      
工作波长   纳米（nm）  
线宽   纳米（nm）  
图案化速度   平方毫米 / 分钟（mm²/min）  
样品尺寸   毫米（mm）  
灰度级   位（bit） 8 位或 16 位（8-bit or 16-bit）

 

 

我们在这里为您服务！

 

  

给我们发电子邮件 info@simtrum.com 以获得今天最优惠的价格。   想要更多的技术信息?点击这里 获取专业定制系统/解决方案。
     

 

没有时间逐个搜索产品?不用担心。您可以下载全系列的瑆创产品线卡，现在点击它。

  

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Compare Model Drawings & Specs Availability Reference Price
(USD)
LL-LW-405-4-0.8
复性：0.1μm ，载物台行程：兼容4""、5"" ，激光波长：405 nm（365/385 nm可选） ，默认配置：20x（0.8 微米，15 平方毫米/分钟）， 灰度：8 位、2K DMD 分辨率 ，随附高性能笔记本电脑 		6-10 Weeks Request for quote
LL-LW-405-6-0.8
重复性：0.1μm， 载物台行程：6""（8""可选），激光波长：405 nm（365/385 nm可选） ，默认配置：20x（0.8 微米，15 平方毫米/分钟），灰度：8 位、2K DMD 分辨率，随高性能笔记本电脑一起交付 		6-10 Weeks Request for quote
LL-LW-405-4-1.5
重复性：0.1μm ，行程：4"" ，激光波长：405 nm（365/385 nm可选）， 默认配置：10x（1.5 微米，60 平方毫米/分钟） ，灰度：8 位、2K DMD 分辨率 ，随附高性能笔记本电脑 		6-10 Weeks Request for quote
LL-LW-405-6-0.8-Upgrade
重复性：0.1μm，行程：8"" 激光波长：405 nm（365/385 nm可选） ，默认配置：20x（0.8 微米，15 平方毫米/分钟），灰度：8 位、2K DMD 分辨率 ，随附高性能笔记本电脑 		6-10 Weeks Request for quote

LL-LW-BSA - Parameter

LL-LW-BSA - Parameter

LL-LW-50 - Parameter

LL-LW-20 - Parameter

LL-LW-10 - Parameter

LL-LW-5 - Parameter

LL-LW-2.5 - Parameter

LL-LW-Upgrade - Parameter

LL-LW-405-6-0.8-Upgrade - Parameter

LL-LW-405-4-1.5 - Parameter

LL-LW-405-6-0.8 - Parameter

LL-LW-405-4-0.8 - Parameter

LL-LW-BSA - Download

LL-LW-BSA - Download

LL-LW-50 - Download

LL-LW-20 - Download

LL-LW-10 - Download

LL-LW-5 - Download

LL-LW-2.5 - Download

LL-LW-Upgrade - Download

LL-LW-405-6-0.8-Upgrade - Download

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LL-LW-405-6-0.8 - Download

LL-LW-405-4-0.8 - Download

Accessories

Compare Model Drawings & Specs Availability Reference Price
(USD)
LL-LW-Upgrade
双光源：405 nm+365 nm（软件可选），灰度：16位，3K DMD分辨率 		6-10 Weeks Request for quote
LL-LW-2.5
线宽：6μm 		6-10 Weeks Request for quote
LL-LW-5
线宽：3 μm，图形速度：200 mm2/min 		6-10 Weeks Request for quote
LL-LW-10
线宽：1.5 μm，图形速度：60 mm2/min 		6-10 Weeks Request for quote
LL-LW-20
线宽：0.8 μm，图形速度：15 mm2/min 		6-10 Weeks Request for quote
LL-LW-50
线宽：0.5 μm，图形速度：3 mm2/min 		6-10 Weeks Request for quote
LL-LW-BSA
仅适用于LL-LW-405-6-0.8，可实现两点对准，对准精度：< 2 um，下单前请确认显微镜放置位置 		6-10 Weeks Request for quote
LL-LW-BSA
穿孔样品台允许基于真空的工件固定，不包括真空泵 		6-10 Weeks Request for quote

Sales Enquiry：13326430008       Email：info@simtrum.com      

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