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相干超宽带XUV光源 | 瑆创光学电子商店

相干超宽带XUV光源

相干超宽带XUV光源

我们的高次谐波产生(HHG)系统包括一个真空室、所有必要的KF真空组件(包括泵浦)和一个全自动化的气体喷射靶标。 该系统通过HHG生成XUV/软X射线脉冲,当(短)飞秒激光聚焦到气体靶标上时。 进一步地,当NEPAL与SAVANNA及我们的多层镜子结合使用时,可以分离出单个阿秒脉冲。 系统提供灵活的操作接口,便于快速、轻松地更换气体喷射靶标。 真空室内的面板被隔离于环境振动,以提高实验的时间稳定性和指向稳定性。 系统还包括用于惰性气体注入的导通装置,可提供如氩气、氖气或氦气等用于高次谐波产生(HHG)的气体,适用于所需的光谱光子范围。 例如,4-5飞秒的短周期(800 nm)脉冲在氖气中可以生成高达150 eV(8.3 nm)的高次谐波。 最终生成的高次谐波光谱取决于聚焦激光脉冲的参数以及所使用惰性气体的相位匹配条件。

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主要产品特征:

高质量KF技术真空室

高次谐波功率最大可达360 µW @ 3 kHz

无油涡轮分子泵浦系统

典型工作压力:几 mbar 到低至小于10^-3 mbar

   基本压强:小于10^-7 mabr

目标托特压强:100s mbar 至 几bar

面板设置隔离于环境振动中,以提高时间稳定性和指向稳定性

兼容1-50 kHz驱动器

 

ISO和KF接口端口与观察窗

薄布儒斯特窗用于最小化啁啾和偏振清洁

用于高次谐波产生(如阿秒脉冲生成)的气体喷射设置。 快速、轻松更换气体靶标,替换气体喷射靶标可根据需求提供

气体喷射靶标安装在电动XYZ平移台上

气体流量由锁定阀控制

占地面积:45 x 45 cm²

陶瓷靶标以提高性能和耐用性

可进行气体回收

 

 


   

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                     左图: NEPAL腔体内部,显示了电动XYZ平移台和用

                于高次谐波(HHG)产生的气体喷射装置。真空导管用于

              电连接和惰性气体供应。两个观察窗可以观察到气体靶中的等

               离子体通道和腔体内部。通过将气体喷射靶与腔体机械解耦,

              增强了高次谐波的稳定性。(氖气中产生的高次谐波功率可达

                          0.1微瓦 @ 3 kHz。)

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           (氖气中产生的高次谐波功率可达0.1µW @ 3 kHz。)

                       右图: 氖气中产生的高次谐波谱。 

                      该谱轻松穿越硅的2p边缘(约100 eV)。

 

NEPAL高次谐波产生:

激光束通过一个凹面镜无色散地聚焦到充满惰性气体的气体腔中,激光强度达到大约 10^13 - 10^14 W/cm^2(对于典型的桌面激光系统),在这种强度下发生高次谐波过程,转换效率为 (10^-5 ~ 10^-8)。  NEPAL兼容长焦距和短焦距,包括非常短的焦距(f ≈ 6 cm)。  可以直接安装XUV光谱仪,以优化高次谐波产生过程。

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应用 - 孤立阿秒脉冲:

NEPAL可以用来产生孤立阿秒脉冲。结合SAVANNA、中空光纤压缩器和内部XUV/软X射线多层镜片,NEPAL能够在氩气、氖气或氦气中产生孤立阿秒脉冲。经过SAVANNA压缩后的脉冲允许幅度门控,同时镜片隔离高次谐波的截止频率,从而产生单一孤立的阿秒脉冲。基于感兴趣的光谱区域选择惰性气体和压强,并且镜片的中心能量和带宽可以根据您的实验(光谱和时间)要求定制。

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差分抽气阶段(包含附件):

两级差分抽气阶段

 基于CF技术的真空腔体

包括涡轮泵和预抽泵

冷阴极压力计

可选的真空出口阀和观察窗

用于对准和强度控制的电动光束光圈

占地面积:60 x 60 cm²

 

 


我们在这里为您服务!

 

 

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