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固体隔振台
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纳米电动执行器
集成的XAFS解决方案
这是一款完整的基于实验室的扩展X射线吸收精细结构(EXAFS)和X射线吸收近边结构(XANES)测量解决方案。
在紧凑的机身中,它集成了X射线管源、高分辨率光谱仪和混合探测器,以及一套用于控制仪器功能和数据分析的软件。光谱质量与同步加速器测量相当,因此无需申请束流时间。
X射线管源和光谱仪覆盖5至12 keV的能量范围,因此包括3d过渡金属的K吸收边。光谱仪优化的HAPG von Hamos架构产生了极高的信噪比,导致分析物浓度在较低百分比时权重较低。该仪器结合了高效率和高光谱分辨率能力,高达E/ΔE = 4000,在覆盖的吸收边范围内保持不变。
同步加速器质量光谱
首个基于实验室的EXAFS和XANES集成解决方案
Beamtime无需申请
快速多色采集
能量范围5至12keV
4000的高分辨率
高达1keV的宽带通
地质、生物学、材料研究的化学状态分析
关于原子距离、氧化态、配位数字的信息
三维过渡金属K吸收边的分析
元素范围
用于EXAFS和XANES的hiXAS可访问的元素范围测量。
即使分析物浓度仅为百分之几的稀释样品,也可在几分钟内完成测量。
10um铜箔的样品XAFS测量,比较实验室(红色)和同步加速器(黑色)结果。
EXAFS振荡(左)和相应的傅立叶变换(右)。
采集时间:有样品3min,无样品1.5min。
6微米厚镍箔的X射线吸收光谱。与(另一)光谱进行比较
在同步加速器上获得(NSLS,分辨率E/ΔE=5000)
显示桌面仪器的高质量结果。
所有相关的光谱特征都存在,允许化合物的测定
应用
化学形态和浓度比
复合物研究
短程有序和键长测定
催化剂分析
请检查下表中的各个规格
相关UV相机选项
maxCAM
e2v的背照CCD(1级),增强工艺,无涂层
e2v的前照CCD(1级),强化工艺
背照式sCMOS,无防反射涂层
500 000 电子活动区域, 1 000 000 电子注册
90 000 e-
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