X射线光谱仪 (1- 20keV) | 瑆创光学电子商店

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Products / 光学分析 /光谱仪 /X射线/极紫外光谱仪 (1-300nm) /X射线光谱仪 (1- 20keV) /

X射线光谱仪 (1- 20keV)

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硬光 X 射线光谱仪（2 - 4keV）

TXS光谱仪可在HHG光束线，X射线下进行精确的光子诊断

自由电子激光器和台式X射线激光器。光子能量介于 2 keV 和之间

4 keV 可在单次测量中测量。在冯·哈莫斯几何中具有高效率

反向散射，X射线光谱被指纹识别，以进行在线光束表征。

透射光束保持不受干扰，透射率为>90%，可进一步用于

实验。只需将反向散射探头与材料样品交换，

硬光 TXS 已为 X 射线发射光谱（XES）做好了准备。招标

X 射线范围提供了对许多材料的化学状态的灵敏访问，例如：

对2keV硫的研究为电池研究提供了重要的见解。

请查看下表以了解个别规格

产品手册（英语）： X射线光谱仪（1-20keV）

中文产品册： X射线光谱仪（1-20keV）

参数	典型值	备注
产品型号	硬光发射
拓扑学	冯·哈莫斯
能量范围（开弗）	2-4 keV ，分辨率 0.3eV
源距离	灵活
探测器	CCD 或 MCP/共模光纤或混合
工作压力（毫巴）	< 10-6	提供特高压版本
晶体定位	电动闭环
光谱滤光片插入单元	自选
控制接口	以太网
软件	视窗 UI 和 LabVIEW/VB/C/C++标清
定制	完全可定制

多面性

• 占地面积小

• 在实验站之间轻松转移

• 操作直观

操作模式

• 2-4keV的发射光谱

• 集成样品安装

• ^{< 10^-4} 的高能量分辨率，带宽为 2%

诊断操作模式

• HHG 光束线上的在线光束表征，

• X射线自由电子激光器，

• 台式X射线激光器

• 带反向散射探头的非干扰架构

• 高透射率>90%

框.JPG

定制

• 每台光谱仪都经过定制，以完全符合要求

应用，例如：

• 台式 X 射线光谱仪

• 布拉格/劳厄X射线光谱仪

• 晶体/多层组合光谱仪

• 托卡马克诊断

• 蒙特卡罗模拟

硬光.JPG

相关UV像机选项

产品
型号	maxCAM	easyCAM	XF95
传感器	来自 e2v（1 级）的背照式 CCD，增强工艺，未镀膜	来自 e2v（1 级）的前照式 CCD，增强工艺	背照式sCMOS，无防反射涂层
波长	1-100nm( 最佳 QE)	50-300nm	-
像素	1024 x 255 *		2048 x 2048
像素大小	26 x 26 um		11um x 11 um
图像区域	26.7 x 6.7 mm		22.5mm x 22.5mm
频谱率	200/s 全垂直 bin, 1000/s 裁剪模式		80-1000eV; 200 nm-1100nm
最低温度	-60° C 风冷		-50° C 在20° C 室温
井深	500 000 电子活动区域, 1 000 000 电子注册		90 000 e-
读取噪音	12.5等在 500kHz		1.6 e- (中位数)
暗电流	0.004 e- /px/s 在 -60°C		-
线性度	>99%		-
真空兼容性	10^-8mbar		10^-7Pa(最大值)

相关光谱仪产品

Product Model	Wavelength (nm)	Dispersion	Resolution
超轻型专业版 (XUV)	5 至 80	0.5 to 1.3nm/mm	<0.028nm 在 40nm
易光 (XUV)	30 至 250	~2.0nm/mm	<0.1nm
高光(XUV)	1 至100	-	<0.1nm
最大亮度 (VUV)	40 至 200	0.9 to 1.6nm/mm	<0.05nm 在 120nm
易光 (VUV)	80 至 300	~2.5nm/mm	<0.1nm
X射线光谱	2-4 keV		0.3eV
扩展的X射线光谱	5-12keV
近边缘X射线吸收	200 - 1200eV

我们在这里等你！


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